主题:  集成电路光刻制造技术进展主讲人:  刘小虎地点:  松2207教室时间:  2019-04-12 13:00:00组织单位:   理学院

 主讲人简介：刘小虎，2012年毕业于东华大学材料学院（理学院共建方向），硕士研究生。目前在上海华力微电子有限公司工作，光刻工艺主任级工程师。熟悉55nm、28nm光刻制造工艺，熟悉NIKON和ASML I-line、KrF、ArF Dry、ArF IMM等各类型光刻机。曾赴日本NIKON公司培训，在公司NIKON和ASML浸没式光刻机量产及性能改善等方面做出重要贡献。

 内容摘要：从沙子到芯片，从PN结到IC，介绍集成电路制造的过程及相关模块；结合摩尔定律，重点讲解集成电路制造中的一项关键技术——光刻制造技术的原理、步骤以及技术进展；介绍国内集成电路制造相关公司和行业发展。

撰写：李学元